光刻技术中掩膜保护用什么胶水?看看光学粘接胶-上海韦本
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光刻技术中掩膜保护用什么胶水?看看光学粘接胶

光刻技术中掩膜保护用什么胶水?看看光学粘接胶

光学粘接胶 在半导体制造中,许多芯片工艺步骤采用光刻技术,用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”),其作用是在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖,继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。胶粘剂在掩膜上的应用主要是掩膜保护胶水,主要作用是胶水通过固化后形成保护膜,这层保护膜可防止灰尘掉落在掩模有图形的一侧。有了这个薄膜的保护,灰尘颗粒只能掉落在掩模版玻璃的一侧或保护膜上。 韦本光通讯胶水中也有掩膜保护UV胶,胶水在UV光照后快速形成一层保护胶膜,完成保护工作后,可以轻松剥离去除,耐受多种加工工艺,保护性能好。为了方便大家选择掩膜保护胶水,韦本整理了几款受客户欢迎的掩膜保护胶水,有需要的朋友可以参考选择:韦本 临时保护UV胶 如果您也正在选择光通讯掩膜保护胶水,不妨看看韦本这几款胶水: 1.6005型号光学粘接胶:这款光学粘接胶韧性好,剥离后没有残留物,并且胶水粘度低,适合旋涂工艺,适用于半导体晶元硅片临时保护。 2.6006型号光学粘接胶:这款胶水不含溶剂、韧性好、易剥离,适用于金属、玻璃等材料表面涂覆保护。 3.6007型号光学粘接胶:这是一款高粘度、高触变性的光学粘接胶,适用于加工过程中螺纹堵孔和灌封保护。 4.6009型号光学粘接胶:这款胶水对金属附着力好,耐切削液、硬度适中、易剥离,适合CNC加工保护。值得信赖的UV胶水厂家 如果您正在找UV胶,不妨试试韦本。 韦本作为UV胶水和UVLED固化设备生产商,多年来始终致力于为客户提供符合严格环境保护要求,且满足工业自动化生产需求的、高品质的、快速胶粘剂(UV)固化解决方案。产品包括适用于摄像头模组、安防产品、PCBA涂覆、扬声器、电子装配、医疗、光纤器件、印刷、喷码等行业的UV固化胶水,低温热固化胶水,热熔胶水,催化剂固化类胶水和UVLED固化设备。我们的客户(部分)24小时客户服务热线:如果您对以上UV胶水感兴趣或有疑问,请点击联系我们网页右侧的在线客服,或致电021-22818476

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